分离再生装置及基板处理装置;SEPARATION AND REGENERATION DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE

摘要

本发明提供一种分离再生装置及基板处理装置，可将晶圆W上的液体确实地去除，并追求运转成本的降低。分离再生装置30，具备：缓冲槽33，产生含有具备第1沸点之第1含氟有机溶剂、及具备较第1沸点更高的第2沸点之第2含氟有机溶剂的混合液体；蒸馏槽34，将混合液加热至第1沸点与第2沸点之间的温度，使其分离为气体状的第1含氟有机溶剂与液体状的第2含氟有机溶剂；第1槽35，将自蒸馏槽34输送之气体状的第1含氟有机溶剂液化而储存；以及第2槽36，储存自蒸馏槽输送之液体状的第2含氟有机溶剂。蒸馏槽34以与缓冲槽33中之混合液的混合比率对应的分离比率，将混合液分离为含有许多第1含氟有机溶剂的液体、及含有许多第2含氟有机溶剂的液体。