模态分析

摘要

在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加第一预定量的RF能量并且向该能量施加带中的该第二区施加第二预定量的RF能量。该第一预定能量量值可以不同于该第二预定能量量值。

主权项

一种用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加在1MHz至100GHz的频率范围内的一个频率或多个频率的电磁能的设备，该设备包括：至少一个处理器，该至少一个处理器被配置为：确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置和施加到该第一区和该第二区的RF能量的相应的第一量值和第二量值；以及对一个电磁能来源进行调节以便根据对该第一区所确定的位置向该能量施加带中的该第一区施加所确定的第一量值的RF能量并且根据对该第二区所确定的位置向该能量施加带中的该第二区施加所确定的第二量值的RF能量。