| 发明名称 |
Verfahren zum Dotieren eines stabfoermigen Koerpers aus Halbleitermaterial,insbesondere aus Silizium,mit Bor |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE1419656(A1) |
申请公布日期 |
1969.10.02 |
| 申请号 |
DE19611419656 |
申请日期 |
1961.05.16 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
KONRAD REUSCHEL,DR.DIPL.-CHEM. |
| 分类号 |
C30B13/10;H01L21/00;H05K3/18 |
主分类号 |
C30B13/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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