发明名称 ACTIVE LIGHT-SENSITIVE, OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME
摘要 노광 래티튜드 및 라인 위드스 러프니스 등의 패턴 러프니스가 우수한 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 및 그를 이용한 패턴 형성 방법을 제공한다. 본 발명의 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물은, (A) 하기 일반식 (I)로 나타나는 활성 광선 또는 방사선의 조사에 의하여 산을 발생하는 화합물 적어도 1종과, (B) 적어도 1종의 하기 일반식 (1)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 산의 작용에 의하여 분해하여 알칼리 현상액에 대한 용해도가 증대되는 수지를 함유한다.
申请公布号 KR20150140733(A) 申请公布日期 2015.12.16
申请号 KR20157031646 申请日期 2014.05.02
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 SHIBUYA AKINORI
分类号 G03F7/004;G03F7/039;G03F7/11;G03F7/20 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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