可调整曝光强度的曝光系统

摘要

本发明的曝光系统包括一光源装置、一控制装置、一光线调配装置、一第一光学装置、一第二光学装置及一透镜阵列装置。控制装置系产生一控制讯号。光线调配装置系接收光源装置产生的光线，且具有多个反射单元。每一反射单元具有多个反射镜，且依据控制装置的控制讯号控制每一反射单元的反射镜运作，以将光线调配成对应的多个调配光线，并调整该些调配光线的强度。透镜阵列装置有多个透镜。该些透镜系一对一地对应光线调配装置的反射单元。如此，本发明的曝光系统系可藉由控制讯号系控制反射单元的反射镜来调整调配光线的强度。