基板处理装置;SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

摘要

本发明之基板处理装置(1)系具备有：基板保持部(31)；基板旋转机构(32)，其使基板保持部(31)与基板(9)一同进行旋转；处理液供给部(5)，其朝向基板(9)而供给处理液；杯部(4)，其利用内周面(412)接取自旋转之基板(9)所飞散之处理液；顶板(22)，其被配置在基板(9)之上方，并且较基板(9)之外周缘而更扩展至以中心轴(J1)为中心之径向外侧；及液膜形成部(24)，其与藉由处理液所进行之基板(9)之处理产生并行，将液体供给至朝向与基板(9)之旋转方向为相同之方向产生旋转之顶板(22)的上表面(224)，藉此在杯部(4)之内周面(412)上形成朝向与基板(9)之旋转方向为相同之方向产生旋转之回旋液膜(95)。在基板处理装置(1)中，可抑制因自基板(9)所飞散之处理液与杯部(4)之冲撞而所产生之飞沫附着至基板(9)上。