曝光装置、曝光方法及元件制造方法

摘要

曝光装置具备：嘴构件70，包含供应口12(用以供应液体LQ)及回收口22(用以回收液体LQ)中之至少一方；及嘴调整机构80，按照基板P的位置或姿势，来调整嘴构件70的位置及姿势之至少一方。曝光装置，系在基板P上形成液体LQ的液浸区域，以透过液浸区域的液体LQ而使基板P曝光。藉此，能将液体良好保持在投影光学系统与基板之间，而能进行高精度之曝光处理。