发明名称 |
表面平坦性绝缘膜形成用涂布溶液、表面平坦性绝缘膜被覆基材和该基材的制造方法 |
摘要 |
一种表面平坦性绝缘膜形成用涂布溶液,是将质均分子量900~10000的聚(二有机取代基)硅氧烷A和金属醇盐B溶解在有机溶剂C中,进而添加水而成的涂布溶液,其聚(二有机取代基)硅氧烷A相对于1摩尔金属醇盐B的摩尔比A/B为0.05~1.5,所述有机溶剂C具有羟基,相对于100g有机溶剂C的水的溶解度是3~20g,相对于1摩尔聚(二有机取代基)硅氧烷A的有机溶剂C的摩尔比C/A是0.05~100。该表面平坦性绝缘膜形成用涂布溶液能够形成可以安装电子器件等的细小部件的、膜表面平坦性高的有机修饰硅酸盐绝缘膜,所述膜是由聚(二有机取代基)硅氧烷和金属醇盐形成的有机修饰硅酸盐的1μm以上的厚膜,不出现由于相分离而引起的凹凸,杨氏模量低,具有能够跟随基板变形的柔软性。 |
申请公布号 |
CN101646736A |
申请公布日期 |
2010.02.10 |
申请号 |
CN200880009907.7 |
申请日期 |
2008.03.25 |
申请人 |
新日铁高新材料株式会社 |
发明人 |
小仓豊史;山田纪子;久保祐治 |
分类号 |
C09D183/04(2006.01)I;C09D5/25(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;H01B3/46(2006.01)I;H01L21/312(2006.01)I |
主分类号 |
C09D183/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
段承恩;陈海红 |
主权项 |
1.一种表面平坦性绝缘膜形成用涂布溶液,是将质均分子量900~10000的聚(二有机取代基)硅氧烷A和金属醇盐B溶解在有机溶剂C中,进而添加水而成的涂布溶液,其特征在于,聚(二有机取代基)硅氧烷A相对于1摩尔金属醇盐B的摩尔比A/B为0.05~1.5,所述有机溶剂C具有羟基,水相对于100g有机溶剂C的溶解度是3~20g,有机溶剂C相对于1摩尔聚(二有机取代基)硅氧烷A的摩尔比C/A是0.05~100。 |
地址 |
日本东京都 |