发明名称 蓝宝石衬底粗糙化的发光二极管及其制造方法
摘要 本发明公开了蓝宝石衬底粗糙化发光二极管的制造方法,包括提供一倒装焊基板和一含正面和背面的蓝宝石衬底,以及通过湿法腐蚀在蓝宝石衬底的正面形成第一粗糙面;在粗糙化的衬底上外延生长III-族氮化物半导体多层薄膜形成LED芯片,自衬底正面向外依次生长GaN结晶层、GaN二维平化层、n型GaN层、发光层和p型GaN层;对LED芯片的p型GaN层进行部分刻蚀至n型GaN层;在LED芯片上沉积p、n电极;在p、n电极上沉积若干压焊金属凸点;在衬底背面形成第二粗糙面;LED芯片通过倒装焊金属凸点与倒装焊基板焊接。本发明粗糙化的蓝宝石衬底背面是通过湿法腐蚀的方法制作的。工艺简便、效率高。可以显著提高LED的取光效率。
申请公布号 CN100585885C 申请公布日期 2010.01.27
申请号 CN200610004656.6 申请日期 2006.01.27
申请人 杭州士兰明芯科技有限公司 发明人 刘榕;刘伟;江忠永;田洪涛;兰叶;张建宝;傅文越
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈 亮
主权项 1、蓝宝石衬底粗糙化发光二极管的制造方法,所述方法包括提供一倒装焊基板和一含正面和背面的蓝宝石衬底,并进行如下步骤:步骤一,通过湿法腐蚀在所述蓝宝石衬底的正面形成第一粗糙面;步骤二,在粗糙化的所述衬底上外延生长III-族氮化物半导体多层薄膜形成LED芯片,自所述衬底正面向外依次生长GaN结晶层、GaN二维平化层、n型GaN层、发光层和p型GaN层;步骤三,对所述LED芯片的p型GaN层进行部分刻蚀至所述n型GaN层;步骤四,在所述LED芯片上沉积p、n电极;步骤五,在所述p、n电极上沉积若干压焊金属凸点;步骤六,在所述衬底背面形成第二粗糙面;步骤七,所述LED芯片通过所述倒装焊金属凸点与所述倒装焊基板焊接。
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