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发明名称 RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN THEREWITH
摘要
申请公布号 EP1610178(A4) 申请公布日期 2010.01.27
申请号 EP20040722980 申请日期 2004.03.24
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 ENDO, KOTARO;YOSHIDA, MASAAKI;HIRAYAMA, TAKU;TSUJI, HIROMITSU;OGATA, TOSHIYUKI;SATO, MITSURU
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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