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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1598701(A4) 申请公布日期 2009.12.09
申请号 EP20040714426 申请日期 2004.02.25
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 HIRAYAMA, TAKU;FUJIMURA, SATOSHI;ENDO, KOTARO;ISHIDUKA, KEITA
分类号 G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/004;G03F7/038 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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