用于晶片频率腐蚀的设备

摘要

本实用新型涉及的是一种用于晶片频率腐蚀的设备，其结构在框内设有腐蚀槽，腐蚀槽紧邻三道清洗槽，三道清洗槽和腐蚀槽间用隔板隔开，三道清洗槽间有隔板，三道清洗槽的底部相通；三道清洗槽和腐蚀槽内各有一根传动杆，传动杆上有腐蚀槽振动架，盛放晶片篮放在该振动架上；所述的腐蚀槽外围有一放水隔层。所述的三道清洗槽中的二个隔板间的高度是不同的。所述的腐蚀槽和清洗槽的上方有一个共同的抽风装置。优点：由自动腐蚀晶片是原加工产量的8倍；腐蚀用计算机档案进行频率管控，减少人为因素；腐蚀和清洗能同时进行，从而减少人力也提高了效率。

主权项

1、用于晶片频率腐蚀的设备，其特征是在框内设有腐蚀槽，腐蚀槽紧邻三道清洗槽，三道清洗槽和腐蚀槽间用隔板隔开，三道清洗槽间有隔板，三道清洗槽的底部相通；三道清洗槽和腐蚀槽内各有一根传动杆，传动杆上有腐蚀槽振动架，盛放晶片篮放在该振动架上；所述的腐蚀槽外围有一放水隔层。