微光学器件移动数字掩模制作方法

摘要

一种微光学器件移动数字掩模制作方法，其特征是制作方法为：(1)通过移动数字掩模制作方法的掩模函数设计移动数字掩模图形；(2)根据曝光能量积累函数设定掩模图形的运动速度及时间；(3)对移动的移动数字掩模图形进行累积曝光，从而得到具有原相位分布的微光学器件。本发明的优点是：1.移动数字掩模技术实现了传统机械移动掩模技术的功能；2.克服了传统机械移动掩模外围尺寸有限导致的边框效应；3.移动数字掩模可方便地实现曝光量的控制；4.根据实际需要实时修改掩模形状和掩模的移动速度及曝光时间，操作灵活方便；5.可一次性制作均匀性很好的连续浮雕面形微光学器件及其阵列。

主权项

1、一种微光学器件移动数字掩模制作方法，其特征是制作方法为：(1)将微光学器件的相位分布函数转换成移动数字掩模制作方法的掩模函数，通过移动数字掩模制作方法的掩模函数设计移动数字掩模图形；(2)根据曝光能量积累函数设定掩模图形的运动速度及时间；(3)通过实时掩模技术，对移动的移动数字掩模图形进行累积曝光，从而得到具有原相位分布的微光学器件。