发明名称 坐标检测装置及方法
摘要 一种坐标检测装置,包括:设置于四边形衬底上的电阻膜;用于向电阻膜施加电压的电源;四个电极,被连接到电源并且被置于电阻膜的四个角上;四个开关,其每个都被置于电源与电极中的一个之间;四个安培计,其每个都被配置为测量流经相应的电极的电流;以及接地的导电膜,其被配置为当导电膜与电阻膜接触时检测电阻膜上的接触点的坐标。通过使开关开路和闭合,电压被顺序地施加于电极。当使导电膜与电阻膜接触时,安培计顺序地测量流经相应的电极的电流。根据电极的位置以及使用安培计测量的电流所得到的电阻,检测出接触点的坐标。
申请公布号 CN101587412A 申请公布日期 2009.11.25
申请号 CN200910140878.4 申请日期 2009.05.14
申请人 富士通电子零件有限公司 发明人 清水信吉;近藤幸一;广田四郎;远藤孝夫
分类号 G06F3/045(2006.01)I 主分类号 G06F3/045(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 郭 放
主权项 1、一种坐标检测装置,包括:设置于由绝缘材料制成的四边形衬底上的电阻膜;被配置为向所述电阻膜施加电压的电源;四个电极,其每个都被连接到所述电源并且分别被设置于所述电阻膜的四个角上;四个开关,其每个都被分别置于所述电源与所述电极中的一个之间;四个安培计,其每个都被配置为测量流经所述电极中相应的一个电极的电流;以及接地的导电膜,其被配置为当该导电膜与所述电阻膜接触时检测所述电阻膜上的接触点的坐标,其中,通过使所述开关断开和闭合,所述电压被顺序地施加于所述电极,当使所述导电膜与所述电阻膜接触时,每个所述安培计顺序地测量流经所述电极中相应的一个电极的电流,以及根据所述电极的位置以及使用所述安培计测量的电流所得到的电阻,检测出所述接触点的坐标。
地址 日本东京都