发明名称 冷压溅射靶
摘要 本发明涉及一种包含溅射材料的溅射靶,所述溅射材料由合金或材料混合物制成,该合金或材料混合物由至少两种处于热力学不平衡状态的组分构成。根据本发明,所述组分是通过等静压冷压法或单轴冷压法来压缩的。
申请公布号 CN101460650A 申请公布日期 2009.06.17
申请号 CN200780020115.5 申请日期 2007.05.30
申请人 W.C.贺利氏有限公司 发明人 马库斯·舒尔特海斯;马丁·魏格特
分类号 C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人 丁业平;张天舒
主权项 1. 一种溅射靶,该溅射靶包含含有合金或材料混合物的溅射材料,该合金或材料混合物由至少两种组分形成,其中所述两种组分以热力学不平衡状态存在,所述溅射靶的特征在于,所述组分是通过等静压冷压法或单轴冷压法来压缩的。
地址 德国哈瑙市