发明名称 |
基板的直接镀铜金属化制造工艺 |
摘要 |
本发明是关于一种基板的直接镀铜(DPC)金属化制造工艺,主要于一基板上先进行凿孔、穿孔电连接等先前处理步骤后,于基板表面以溅镀方式依序形成钛层及铜层,并于贴上干膜后而进行曝光、显影等步骤,随后于线路图案上镀铜以形成铜线路,完成后即剥离干膜,再依序于铜线路上镀镍及镀金,即完成金属化制造工艺;以前述制造工艺可使线路细直、且兼具理想导热效果、高频特性、低损失、低成本及物理性稳定等优点。 |
申请公布号 |
CN101460014A |
申请公布日期 |
2009.06.17 |
申请号 |
CN200710196833.X |
申请日期 |
2007.12.11 |
申请人 |
同欣电子工业股份有限公司 |
发明人 |
吕绍萍 |
分类号 |
H05K3/02(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I |
主分类号 |
H05K3/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
任默闻 |
主权项 |
1. 一种基板的直接镀铜金属化制造工艺,所述的制造工艺包括有:一先前处理步骤,于基板上进行凿孔、穿孔电连接处理;一形成钛和铜层步骤,以溅镀方式于基板表面依序形成;一贴干膜步骤;一图型成像步骤,利用光罩于基板表面进行曝光、显影处理;一形成铜线路步骤,于基板上成像的线路图案上镀铜以形成线路;一剥膜步骤,用以剥离基板表面残留的干膜;一镀镍步骤,于铜线路上形成隔离迁移用的镍层;及一镀金步骤,于铜线路的镍层外形成金层的步骤;一去除钛和铜层步骤。 |
地址 |
台湾省台北市 |