| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung mit einer Kammer für die Bestrahlung zumindest eines Substrates, umfassend eine Schleuse zur Einführung und Entnahme des Substrates, einen Substrathalter innerhalb der Kammer, eine Vakuumpumpe und zumindest eine Bestrahlungseinheit zur Bestrahlung des Substrates, wobei die Bestrahlungseinheit zumindest einen Infrarotstrahler mit einem integrierten Reflektor umfasst. |
