真空辅助垫清理系统及采用开孔清理盘的方法

摘要

用于清理抛光垫的方法及装置，采用开孔清理盘用于注入特定操作抛光液，无需附加加工、压板及材料处理。该方法及装置采用利用真空性能以将废物材料从清理垫上抽出并经由开孔的清理盘，通过一出口排出该装置，该装置还可以包括独立的冲洗装置以及用于振动垫清理装置的压电装置。

主权项

1. 在多步骤抛光过程中清理抛光垫的方法，其中各步骤采用不同的特定操作抛光液，该方法具有以下步骤：经由研磨清理盘中的多个孔洞，将清洗剂施加到抛光垫的表面部分；经由孔洞，通过施加真空和抽出药剂、碎片和抛光液，从抛光垫上除去清洗剂、垫碎片和任何残留抛光液；经由研磨清理盘中的多个孔洞，将中和剂施加到抛光垫的表面部分，所选择的中和剂特定地中和抛光液的化学组分；以及经由孔洞，通过施加真空和抽出中和剂及残留碎片，从抛光垫上用液体和/或气体冲洗抛光垫的表面部分，以除去中和剂及任何残留碎片。