发明名称 成像装置和成像方法
摘要 本发明提供了从成像器件接收信号的一种检测电路和一种控制器,判定信号电平超过预定缺陷判定电平的像素为缺陷像素,并且根据读出方法存储缺陷像素的地址。当成像器件对目标成像时,缺陷补偿电路对应于读出方法,读出存储的缺陷像素的地址,并且为缺陷像素执行预定的补偿处理。控制器存储缺陷像素的信号电平,并且对应于读出方法转化信号电平。结果是,当在一个方法中检测缺陷像素时,可以在多种方法中对缺陷像素进行补偿。
申请公布号 CN100471233C 申请公布日期 2009.03.18
申请号 CN200710097111.9 申请日期 2005.05.17
申请人 索尼株式会社 发明人 千叶卓也;滨野明;田中健二
分类号 H04N5/217(2006.01)I;H04N5/335(2006.01)I;H04N3/15(2006.01)I 主分类号 H04N5/217(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 钱大勇;蒲迈文
主权项 1、一种成像装置,包括:CMOS成像器件,该CMOS成像器件有多个像素组,每个像素组至少有一个像素,其中每个像素组由对应于CMOS成像器件的一个行的像素组成;信号检测装置,用于从像素读出存储的电荷,并且输出具有信号电平的信号,该信号电平对应于读出的存储的电荷的量;和缺陷检测装置,用于根据信号电平判定像素是否是缺陷像素,其中所述信号检测装置控制所述CMOS成像器件的像素,从而在第一种读出方法和第二种读出方法中的一种读出方法中,从所述CMOS成像器件的像素读出存储电荷,其中在第一种读出方法中,从每个像素读出存储的电荷,从而每个像素组的电荷存储时间以第一比率,与每个像素组到所述CMOS成像器件的预定位置的距离成比例,其中所述CMOS成像器件的预定位置是所述CMOS成像器件的第一个行,其中在第二种读出方法中,从每个像素读出存储的电荷,从而每个像素组的电荷存储时间以第二比率,与每个像素组到所述CMOS成像器件的预定位置的距离成比例,该第二比率与第一比率不同,其中所述缺陷检测装置在从第一种读出方法中和第二种读出方法中选出的一个读出方法中,为CMOS成像器件设置缺陷判定电平,判定信号电平大于缺陷判定电平的像素为缺陷像素,和其中设置缺陷判定电平,从而所述缺陷判定电平以介于第一比率和第二比率之间的比率,成比例于到所述CMOS成像器件的预定位置的距离。
地址 日本东京都