发明名称 |
抗反射隔膜及制造、显示设备、光学存储媒体及太阳能转换装置 |
摘要 |
气凝胶的传统薄隔膜,尽管具有低折射系数,但是当应用于显示设备等时还存在一些困难,这是由于其低强度导致的。其他方法制造的隔膜难以同时实现低折射系数和足够的强度。本发明提供了一种形成在透射可见光的板的至少一侧上的抗反射隔膜,所述隔膜由无机氧化物微粒和粘合剂构成,内部包含多个孔,具有低于6nm的算术平均表面粗糙度(Ra)。本发明还提供了装有所述隔膜的显示设备的优选实施例。 |
申请公布号 |
CN100465664C |
申请公布日期 |
2009.03.04 |
申请号 |
CN200510099015.9 |
申请日期 |
2005.08.31 |
申请人 |
株式会社日立制作所 |
发明人 |
佐佐木洋;富冈安;足立昌哉;杉林真己子;桧山郁夫;近藤克已 |
分类号 |
G02B1/11(2006.01);F24J2/10(2006.01);G02F1/1335(2006.01) |
主分类号 |
G02B1/11(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
张浩 |
主权项 |
1.一种抗反射隔膜,由无机氧化物微粒和粘合剂构成,并具有60到190nm的厚度和内有尺寸为5到200nm的孔,其中无机氧化物微粒是二氧化硅,粘合剂是具有水解类残余物的硅化合物,其中氟化合物被化学地粘接于表面,该氟化合物含有下列化合物之一:(化学式1)[F{CF(CF3)-CF2O}n-CF(CF3)]-X-Si(OR)3 n=6到48,{F(CF2CF2CF2O)n}-X-Si(OR)3 n=6到48,{H(CF2)n}-Y-Si(OR)3 n=1到16,其中,X为全氟代聚醚链与烷氧基硅烷残余物相互键合的位点,Y为全氟代烷基链与烷氧基硅烷残余物相互键合的位点,R为烷基。 |
地址 |
日本东京 |