发明名称 METHOD AND ARRANGEMENT FOR MEASUREMENT OF PARAMETERS OF A PLASMA SUPPLY DEVICE
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Messung von elektrischen Parametern in einer Hochfrequenz-Klasse-D- Verstärkeranordnung bei Frequenzen von > 3 MHz, wobei die Verstärkeranordnung mit einer aus zwei in Serie geschalteten schaltenden Elementen (1, 2) gebildeten Halbbrücke (HB) mit zwei Versorgungsanschlüssen (3, 4) und einem zwischen den schaltenden Elementen liegenden Ausgangsanschluss (M) besteht und zur Steuerung der schaltenden Elemente (1, 2) eine Treiberanordnung (41) vorgesehen ist. Bei einer Anordnung zur Messung von elektrischen Signalen für eine Verstärkeranordnung, die bei hohen Frequenzen arbeitet und zum Einsatz in Hochfrequenzstromversorgungsanordnungen, insbesondere Plasmastromversorgungen geeignet ist, können die an mindestens einem Treiber (12) der Treiberanordnung (41) gemessenen elektrischen Parameter als Lichtsignale mittels eines Lichtübertragungssystems (22, 25, 29, 3,1 32, 33, 34) an eine Steuerung (36) der Verstärkeranordnung übertragbar sein.</p>
申请公布号 WO2009012848(A1) 申请公布日期 2009.01.29
申请号 WO2008EP04650 申请日期 2008.06.11
申请人 HUETTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG;HINTZ, GERD;KIRCHMEIER, THOMAS 发明人 HINTZ, GERD;KIRCHMEIER, THOMAS
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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