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Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem Schichtsystem (120, 200), welches zumindest einseitig von einer Linse oder einem Spiegel begrenzt wird, wobei das Schichtsystem (120, 200) ein aus mehreren Schichten aufgebautes Interferenzschichtsystem ist und wenigstens eine flüssige oder gasförmige Schichtlage (123, 220) aufweist, deren maximale Dicke maximal 1 Mikrometer (µm) beträgt, und einem Manipulator (105) zur Manipulation des Dickenprofils dieser Schichtlage (123, 220).
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