| 发明名称 | 控制渗透子垫 | ||
| 摘要 | 提供一种无缝抛光垫，包括渗透入多孔子垫(3)的深度基本均匀的无缝抛光层(4)。在一种实施方案中，抛光垫包括通过施加可硬化流体到子垫产生的抛光层。在另一实施方案中，在用可硬化流体涂敷前用防渗层涂敷子垫。在每种实施方案中，抛光层和/或防渗层的渗透深度是基本均匀的。还提供了制造无缝抛光垫的方法，抛光垫包括渗透入多孔子垫的深度基本均匀的无缝抛光层。 | ||
| 申请公布号 | CN100445091C | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN03819102.4 | 申请日期 | 2003.06.09 |
| 申请人 | 普莱克斯S.T.技术有限公司 | 发明人 | J·钱奇奥洛;B·S·隆巴尔多 |
| 分类号 | B32B37/00(2006.01) | 主分类号 | B32B37/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种无缝抛光垫，包括：上面具有无缝抛光层的多孔子垫层，其中所述抛光层是在所述子垫层上的可硬化流体浇铸物，其渗透入所述子垫层至基本均匀的深度，并且其中用硬度计测得的垫可压缩性的带内不均匀性小于10％。 | ||
| 地址 | 美国康涅狄格州 | ||