发明名称 | 利用分压调节化学氧化物去除工艺的方法和系统 | ||
摘要 | 公开了一种用于修整衬底上的特征的方法和系统。在衬底的化学处理期间,在受控条件下将衬底暴露于反应性气相化学物质,如HF/NH<SUB>3</SUB>。也可引入具有反应气相化学的惰性气体。开发出与第一反应物、第二反应物和可选惰性气体有关的工艺模型。在指定目标修整量后,利用工艺模型来确定用于实现指定目标的工艺配方。 | ||
申请公布号 | CN100446209C | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
申请号 | CN200580009954.8 | 申请日期 | 2005.02.08 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 岳红宇 |
分类号 | H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李剑 |
主权项 | 1.一种用于在化学氧化物去除工艺中实现衬底上的特征的目标修整量的方法,包括:利用包括第一反应物、第二反应物和处理压强在内的工艺配方执行化学氧化物去除工艺,以在保持至少一个恒定参数恒定的同时获取作为可变参数的函数的修整量数据,其中所述可变参数是第一组参数中的一个,第一组参数包括所述第一反应物的量、所述第二反应物的量和处理压强,不同于所述可变参数的所述至少一个恒定参数是第二组参数中的一个,第二组参数包括所述第一反应物的量、所述第二反应物的量和处理压强;确定所述修整量数据和所述可变参数之间的关系;利用所述修整量数据和所述关系来确定所述可变参数的目标值;通过将所述衬底暴露于利用所述可变参数的所述目标值和所述至少一个恒定参数的所述工艺配方,来化学处理所述衬底上的所述特征;以及从所述特征基本去除所述目标修整量。 | ||
地址 | 日本东京都 |