发明名称 |
精确定位聚焦离子束修补位置的方法 |
摘要 |
本发明提供一种可以精确定位聚焦离子束修补位置的方法,主要通过光学透射显微镜配合激光标记来定位目标区域,光学透射式显微镜能够透过钝化层直接显示其下的线路结构,而传统方法中使用的聚焦离子束成像只能显示样品最外层的情况,因此本发明的方法可以更精确地定位聚焦离子束修补位置。另外本发明在涂料上作标记的激光能量较低,不会损坏样品材质。而且,所采用的涂料可以用化学试剂,例如丙酮,将涂料轻松洗去,可以反复涂抹,不会影响后续步骤。 |
申请公布号 |
CN100446175C |
申请公布日期 |
2008.12.24 |
申请号 |
CN200510030010.0 |
申请日期 |
2005.09.26 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
张启华;江秀霞;季春葵;李冠华 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01);H01L21/68(2006.01);H01L21/66(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01) |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 |
代理人 |
李勇 |
主权项 |
1、一种精确定位聚焦离子束修补位置的方法,其特征在于包括下列步骤:(1)在测试样品的表面涂上一层透明的绝缘性涂料,使涂料均匀地涂布在目标区域的周围;(2)在光学显微镜指示下,用激光去除样品上目标点周围小块合适区域,即后续需要作处理的区域上的涂料;(3)在扫描式电子显微镜或者聚焦离子束的显像中找到没有涂料的区域,作为目标点所在的位置,用聚焦离子束蚀刻至暴露出目标金属层结构,然后可以对目标区域进行切割、修补操作。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号 |