发明名称 精确定位聚焦离子束修补位置的方法
摘要 本发明提供一种可以精确定位聚焦离子束修补位置的方法,主要通过光学透射显微镜配合激光标记来定位目标区域,光学透射式显微镜能够透过钝化层直接显示其下的线路结构,而传统方法中使用的聚焦离子束成像只能显示样品最外层的情况,因此本发明的方法可以更精确地定位聚焦离子束修补位置。另外本发明在涂料上作标记的激光能量较低,不会损坏样品材质。而且,所采用的涂料可以用化学试剂,例如丙酮,将涂料轻松洗去,可以反复涂抹,不会影响后续步骤。
申请公布号 CN100446175C 申请公布日期 2008.12.24
申请号 CN200510030010.0 申请日期 2005.09.26
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 张启华;江秀霞;季春葵;李冠华
分类号 H01L21/00(2006.01);H01L21/68(2006.01);H01L21/66(2006.01) 主分类号 H01L21/00(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 李勇
主权项 1、一种精确定位聚焦离子束修补位置的方法,其特征在于包括下列步骤:(1)在测试样品的表面涂上一层透明的绝缘性涂料,使涂料均匀地涂布在目标区域的周围;(2)在光学显微镜指示下,用激光去除样品上目标点周围小块合适区域,即后续需要作处理的区域上的涂料;(3)在扫描式电子显微镜或者聚焦离子束的显像中找到没有涂料的区域,作为目标点所在的位置,用聚焦离子束蚀刻至暴露出目标金属层结构,然后可以对目标区域进行切割、修补操作。
地址 201203上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号