发明名称 膜形成组合物、使用此膜形成组合物的图案形成方法以及立体模型
摘要 本发明提供一种膜形成组合物、使用此膜形成组合物的图案形成方法以及立体模型,所述膜形成组合物能够获得由显影后的膜的凹凸所产生的对比得到增强的图案。本发明的解决手段是:将能够通过感应光和热中的至少任意一者来控制所形成的膜在显影液中的溶解度的化合物,调配在含有以下述化学式(A)表示的烷氧基金属化合物的水解物或缩合物中的至少任意一种的组合物中;式中,M为硅、锗、钛、钽、铟或锡,R<SUP>1</SUP>为氢原子或1价有机基团,R<SUP>2</SUP>为1价有机基团,n表示1~3的整数,R<SUP>1</SUP><SUB>n</SUB>-M(OR<SUP>2</SUP>)<SUB>4-n</SUB>(A)。
申请公布号 CN101263429A 申请公布日期 2008.09.10
申请号 CN200680033442.X 申请日期 2006.08.28
申请人 东京应化工业株式会社 发明人 山下直纪;石川清;坂本好谦;北条卓马
分类号 G03F7/075(2006.01);B81C5/00(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/32(2006.01);G03F7/38(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/075(2006.01)
代理机构 深圳创友专利商标代理有限公司 代理人 江耀纯
主权项 1.一种膜形成组合物,其特征在于含有:以下述化学式(A)表示的烷氧基金属化合物的水解物和缩合物中的至少任意一种和对比增强剂;所述对比增强剂通过感应光和热中的至少任意一者来控制所形成的膜在显影液中的溶解度,并以此来增强由显影后的膜的凹凸所产生的对比;式中,M为硅、锗、钛、钽、铟或锡,R1为氢原子或1价有机基团,R2为1价有机基团,n表示1~3的整数,R1 n-M(OR2)4-n (A)
地址 日本国神奈川县