| 发明名称 |
PROCEDE DE GRAVURE UTILISANT UNE STRUCTURE DE MASQUAGE MULTICOUCHE |
| 摘要 |
<p>Le procédé de gravure d'une couche cible comporte la formation sur la couche cible (1) d'une structure multicouche (2) ayant une couche de masque dur inorganique (4) disposée sur ladite couche cible (1 ), elle-même recouverte par un masque (5) comportant un réseau de motifs nanométriques. La couche de masque dur inorganique (4) comporte une couche mince d'oxyde métallique d'épaisseur inférieure ou égale à 10 nm. Le réseau de motifs nanométriques du masque (5) est transféré dans la couche cible (1) par gravures successives.</p> |
| 申请公布号 |
FR2936094(A1) |
申请公布日期 |
2010.03.19 |
| 申请号 |
FR20080005022 |
申请日期 |
2008.09.12 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE;CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) |
发明人 |
JOUBERT OLIVIER;DAVID THIBAUT;CHEVOLLEAU THIERRY;CUNGE GILLES |
| 分类号 |
H01L21/033;H01L21/308;H01L21/3213 |
主分类号 |
H01L21/033 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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