图案形成体之制造方法及其使用之光罩

摘要

本发明系提供一种在制造图案形成体之际有可能以高精度形成图案，不需要曝光后之后处理，而且所制成之图案形成体内并未含有光触媒，因此对图案形成体本身之劣质化亦不必担心之图案形成体之制造方法为其主要目的者。本发明系提供一种具有下述步骤为特征之图案形成体之制造方法以解决上述问题者：图案形成体用基板制备步骤，在此制备一具有受到光触媒之作用时发生表面特性变化之特性变化层之图案形成体用基板；以及图案形成步骤，在此将一在基材上形成含有光触媒之含光触媒层而成之含光触媒层侧基板之该含光触媒层及上述特性变化层以可得到200μm以下之间隙之方式予以隔开配置后，对此从指定方向施加能量之照射，藉此在上述特性变化层之表面上形成一发生特性变化之图案。

主权项

一种图案形成体之制造方法，其特征为，具有下述步骤；图案形成体用基板制备步骤，在此制备一图案形成体用基板，此基板具有受到氧化钛之作用而发生表面特性变化之特性变化层；以及图案形成步骤，在此将一在基材上形成含有氧化钛之含光触媒层而成之含光触媒层侧基板之该含光触媒层及上述特性变化层，以可得到200μm以下之间隙之方式予以配置后，对此从指定方向施加能量之照射，藉此在上述特性变化层之表面上形成一发生特性变化之图案。