内连线的结构及其形成方法

摘要

本发明提供一种内连线的结构，包括：一沟槽，形成于一介电层内；一阻障层，形成于沟槽之侧壁上；以及一导电层，形成于沟槽内，其中导电层包括：一第一附属层，形成于阻障层上，具有一第一杂质浓度；一第二附属层，形成于第一附属层上，具有一第二杂质浓度；以及一第三附属层，形成于第二附属层上，具有一第三杂质浓度，其中相邻之该第一、第二及第三附属层之杂质浓度比大于2。

主权项

一种内连线的结构，包括：一沟槽，形成于一介电层内；一阻障层，形成于该沟槽之侧壁上；以及一导电层，形成于该沟槽内，其中该导电层包括：一第一附属层，形成于该阻障层上，具有一第一杂质浓度；一第二附属层，形成于该第一附属层上，具有一第二杂质浓度；以及一第三附属层，形成于该第二附属层上，具有一第三杂质浓度，其中相邻之该第一、第二及第三附属层之杂质浓度比大于2。