用于光刻装置的对准系统、光刻装置及其对准方法

摘要

本发明提出一种用于光刻设备的对准系统，用于根据晶片上的对准标记对准晶片，包括光源模块、照明模块、成像模块、探测模块和信号处理和定位模块。上述对准标记是包括多个列光栅或行光栅的阵列结构，上述列光栅或行光栅的线宽或占空比在光栅周期内呈正弦规律变化，上述照明光束依次照明对准标记的N个列光栅或行光栅。本发明的对准系统能够消除对准位置偏差，提高对准精度。

主权项

1.一种用于光刻设备的对准系统，包括：光源模块，用于提供该对准系统的照明光束；照明模块，用于传输照明光束，垂直照明晶片上的对准标记；成像模块，采集对准标记的正、负一级衍射光束；探测模块，在晶片台或对准标记扫描过程中探测对准标记的正、负一级衍射光的光强，得到对准光信号；信号处理和定位模块，设置成与探测模块相连接，处理对准光信号并根据对准光信号的幅值信息得到对准标记的中心位置；其特征在于：所述对准标记是包括多个列光栅或行光栅的阵列结构，所述列光栅或行光栅的线宽或占空比在光栅周期内呈正弦规律变化，所述照明光束依次照明对准标记的多个列光栅或行光栅。