| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、氧化剂和水，其还含有下列表面摩擦调节剂中的一种或多种：水溶性多聚脂肪链类聚合物、水溶性醇类、水溶性醚类和水溶性纤维素类。本发明的抛光液可降低表面磨擦系数，减少抛光基底表面的缺陷(划伤、腐蚀和表面颗粒等)。 | ||
| 申请公布号 | CN101550319A | 申请公布日期 | 2009.10.07 |
| 申请号 | CN200810035594.4 | 申请日期 | 2008.04.03 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 徐春 |
| 分类号 | C09G1/18(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、氧化剂、络合剂和水，其特征在于：其还含有下列表面摩擦调节剂中的一种或多种：水溶性多聚脂肪链类聚合物、水溶性醇类、水溶性醚类和水溶性纤维素类。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||