| 发明名称 | 彩膜基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种彩膜基板的制造方法，包括用模具掩盖待涂布颜料的位置，并在模具未掩盖的基板上形成胶状聚合物层；再进行第一次热处理；再涂布液态颜料；再进行第二次热处理；最后进行清洗处理。通过本发明实施例可以降低成本并简化工艺流程。 | ||
| 申请公布号 | CN101551545A | 申请公布日期 | 2009.10.07 |
| 申请号 | CN200810103434.9 | 申请日期 | 2008.04.03 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 石均 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G02B5/23(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘 芳 |
| 主权项 | 1、一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：步骤11、用模具掩盖待涂布颜料的位置，并在模具未掩盖的基板上形成胶状聚合物层；步骤12、对完成步骤11的基板进行第一次热处理；步骤13、在完成步骤12的基板上涂布液态颜料；步骤14、对完成步骤13的基板进行第二次热处理；步骤15、对完成步骤14的基板进行清洗处理，完成一种颜色树脂层的制备。 | ||
| 地址 | 100176北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||