激光直接绘图方法和激光直接绘图装置

摘要

本发明的激光直接绘图装置，在使沿列方向和行方向排列的激光束(4)的光轴向与列方向相同的方向的主扫描方向偏转的同时，使被绘制体向与行方向相同的方向的副扫描方向移动，采用柱状透镜(10)向副扫描方向使基于栅格数据而调制的激光束聚集并照射到被绘制体(11)上，由此在被绘制体上绘制所需的图案，设置设定机构，其将上述行方向的激光束的光轴的数量设为作为正整数的q和s的乘积p，并且设定绘图部位的光量；旋转机构，其使柱状透镜在上述行列面内旋转，根据上述设定机构所设定的光量确定柱状透镜的位置，在沿行方向每次按照s行错开的同时，将激光束照射到被绘制体上，由此进行绘图部位的光量为1重曝光的场合的q倍的q重曝光。

主权项

1.一种激光直接绘图方法，在使沿列方向和行方向排列的激光束的光轴向与上述列方向相同的方向的主扫描方向偏转的同时，使被绘制体向与上述行方向相同的方向的副扫描方向移动，使基于栅格数据而调制的上述激光束照射到上述被绘制体，由此在上述被绘制体上绘制所需的图案，其特征在于，将上述行方向的激光束的光轴的数量设为作为正整数的q和s的乘积p，在沿行方向每次按照s行错开的同时，将上述激光束照射到上述被绘制体上，由此进行绘图部位的光量为1重曝光的场合的q倍的q重曝光。