pH buffered aqueous cleaning composition and method for removing photoresist residue,申请号EP20070250069-传众专利搜索

发明名称	pH buffered aqueous cleaning composition and method for removing photoresist residue
摘要
申请公布号	EP1808480(B1)	申请公布日期	2009.10.07
申请号	EP20070250069	申请日期	2007.01.09
申请人	AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.	发明人	WU, AIPING;ROVITO, ROBERTO JOHN
分类号	C11D3/33;C11D7/10;C11D3/02;C11D3/24;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/34;C11D7/28;C11D7/32;C11D7/34;C11D11/00;H01L21/02	主分类号	C11D3/33
代理机构		代理人
主权项
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