具基板清洁装置的光学制作工艺设备及其制作工艺方法

摘要

一种基板清洁装置、包括此基板清洁装置的光学制作工艺设备以及使用此光学制作工艺设备的光学制作工艺方法。光学制作工艺设备主要包括基板清洁装置、光学制作工艺机台及材料涂布装置。光学制作工艺机台具有基板座，材料涂布装置优选设置在基板座的上方，且可相对于基板座移动。基板清洁装置主要包括出气装置及气体供应装置。出气装置是设置对应于材料涂布装置的前导端，气体供应装置与出气装置连接，并提供气体至出气装置。在材料涂布装置涂布基板座上的基板或薄膜前，基板清洁装置喷出气体至基板或薄膜上，以清洁其上的灰尘或其他影响成品品质的粒子。

主权项

一种基板清洁装置，供与一材料涂布装置及一光学制作工艺机台配合使用，该基板清洁装置包括：一出气装置，包括一气体出口以及与该气体出口连通的第一气槽，该气体出口为细长出气缝，此细长出气缝与所述材料涂布装置并列，以与该出气装置的移动方向垂直，其中该出气装置是设置对应于该材料涂布装置的一前导端；一气体回收装置，该气体回收装置对应该气体出口，使该气体出口位于该气体回收装置及该材料涂布装置之间，该气体回收装置设置在该光学制作工艺机台上，且对应于该光学制作工艺机台的基板座的底端，该气体回收装置包括气体入口，该气体入口低于该出气装置的该气体出口；以及一气体供应装置，适于提供气体至该出气装置。