| 摘要 |
Bei der Elektrodenanordnung mit zumindest zwei Teilelektroden für eine Vorrichtung zur Plasmabehandlung flacher Substrate, wobei jede Teilelektrode einen prismatisch ausgebildeten länglichen Elektrodenkörper umfasst, welcher an seiner einem zu behandelnden Substrat zugewandten Vorderseite eine Elektrodenfläche aufweist, und wobei die zumindest zwei Teilelektroden mit vorzugsweise koplanaren Elektrodenflächen und zueinander parallelen Längsseiten des Elektrodenkörpers benachbart nebeneinander angeordnet sind, ist vorgesehen, dass zumindest eine Teilelektrode mit zumindest zwei Anschlusselementen zur Zuführung von elektrischer Leistung elektrisch verbunden ist, wobei ein erstes Anschlusselement an oder nahe einer ersten Stirnseite und ein zweites Anschlusselement an oder nahe einer zweiten Stirnseite des Elektrodenkörpers ankoppelt. Ferner betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Plasmabehandlung eines flachen Substrats, wobei das Substrat in einer Vakuumkammer zwischen einer Elektrodenanordnung und einer flachen Gegenelektrode anordenbar ist und in einem Bereich zwischen Elektrode und Gegenelektrode eine Plasmaentladung angeregt werden kann, und wobei die Elektrodenanordnung wie oben beschrieben ausgebildet ist sowie Verfahren zur Plasmabehandlung unter Verwendung der Elektroden oder der Vorrichtung, wie oben beschrieben.
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