发明名称 |
利用有机涂层制造半导体图象传感器的方法 |
摘要 |
本发明为一种利用有机涂层制造半导体图象传感器的优化工艺。本发明中利用顶部和底部有机涂层的抗反射特性,降低基底的反射光强度,减少由于杂光而导致含有滤光材料的负性光敏光刻胶交联产生的基底底膜残留问题;同时依靠顶部有机涂层所包含的表面显影活性剂,优化显影工艺,降低由于显影不良而产生的顶部薄膜残留问题,恰当的使用顶部和底部有机涂层,有效的改善和优化半导体图象传感器的滤光层的制造工艺,大大提高器件性能。 |
申请公布号 |
CN1855516B |
申请公布日期 |
2010.05.12 |
申请号 |
CN200510025215.X |
申请日期 |
2005.04.20 |
申请人 |
上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹(集团)有限公司 |
发明人 |
朱骏 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
一种利用有机涂层制造半导体图象传感器的方法,其特征在于:在半导体图象传感器滤光层顶部和底部涂布抗反射显影加强层,调整反射率,该利用有机涂层制造半导体图象传感器的方法,包括如下步骤:(1)清洗基底,在所述基底上涂布底部抗反射显影加强层,烘烤;(2)在所述底部抗反射显影加强层上涂布具有一种颜色的半导体图象传感器滤光层材料,烘烤;(3)在所述半导体图象传感器滤光层材料表面涂布顶部抗反射显影加强层,烘烤;(4)曝光、显影,完成所述颜色象素点的制作;(5)重复(2)到(4)步操作,完成其他颜色象素点的制作,最终完成半导体图象传感器的滤光层的制作。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区春晓路149号主楼1楼 |