| 发明名称 |
Verfahren zum Herstellen oxydfreier Metallkontakte an Siliciumsubstraten |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE1621252(A1) |
申请公布日期 |
1971.04.29 |
| 申请号 |
DE19671621252 |
申请日期 |
1967.12.23 |
| 申请人 |
GENERAL ELECTRIC COMPANY |
发明人 |
METLAY,MAX;LOUIS SCHAEFER,DONALD |
| 分类号 |
B01J19/12;G03C5/58;H01L21/00;H01L21/288;H01L21/311 |
主分类号 |
B01J19/12 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
