| 发明名称 | 光敏的防反射底面涂层 | ||
| 摘要 | 提供防反射组合物以及使用这些组合物形成电路的方法。所述组合物包含溶于或分散于溶剂系统中的聚合物。优选的聚合物包括聚碳酸酯类、聚磺酸酯类、聚碳酸酯-砜类以及它们的混合物。所述组合物可以施涂到硅片或其它基材上，形成开始时不溶于一般光致抗蚀剂显影溶液中的固化或硬化层。当暴露到光中时，所述固化或硬化的层在光致抗蚀剂显影溶液中变得可溶，使所述层和显影的光致抗蚀剂层一起选择性除去，由此取消单独的除去步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1672097B | 申请公布日期 | 2010.05.12 |
| 申请号 | CN03818306.4 | 申请日期 | 2003.07.28 |
| 申请人 | 布鲁尔科技公司 | 发明人 | D·J·古尔瑞罗 |
| 分类号 | G03C1/492(2006.01)I;G03C1/76(2006.01)I;G03C1/825(2006.01)I | 主分类号 | G03C1/492(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.一种聚合物，它包含具有如下通式(III)的重复单体：<img file="F038183064C00011.GIF" wi="800" he="145" />式中，R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>独立选自芳基和烷基；R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>中至少一个包含-SO<sub>2</sub>基团；R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>中至少一个包含芳族基团；和R<sup>3</sup>和R<sup>4</sup>中至少一个选自如下：<img file="F038183064C00012.GIF" wi="800" he="685" /><img file="F038183064C00021.GIF" wi="800" he="571" /> | ||
| 地址 | 美国密苏里州 | ||