| 发明名称 | 将集成电路设计转换为多个掩模的方法和系统 | ||
| 摘要 | 本发明提出一种用于将集成电路设计转换为一组用于制造集成电路的掩模的方法，优化基于边缘的图像转印工艺的使用。 | ||
| 申请公布号 | CN1963666B | 申请公布日期 | 2010.05.12 |
| 申请号 | CN200610142943.3 | 申请日期 | 2006.10.31 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 拉尔斯·沃尔夫冈·里耶布曼;约臣·贝恩特纳 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 屠长存 |
| 主权项 | 一种将集成电路设计转换为多个掩模的方法，所述多个掩模优化用于制造所述集成电路的基于边缘的图案转印工艺，该方法包括：生成基于边缘的图像转印掩模，用于制造包括多个集成电路形状的集成电路图案中的最优数量的基于边缘的图像转印形状；生成阻挡掩模，该阻挡掩模清除所述最优数量的基于边缘的图像转印形状的残余部分；和生成光刻掩模，用于制造所述集成电路图案中的所有剩余集成电路形状。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||