| 发明名称 | 晶圆清洗设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种晶圆清洗设备，所述晶圆清洗设备包括：外罩，所述外罩表面设有若干个缺口；与所述缺口位置对应，用于封闭或者开放所述缺口的控制门。所述的晶圆清洗设备在缺口位置设置控制门，避免了采用化学试剂清洗时清洗液溅到去离子水喷嘴和氮气喷嘴表面，从而在用去离子水喷嘴和氮气喷嘴时，其表面残留的化学清洗液滴落导致的产品缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN201454923U | 申请公布日期 | 2010.05.12 |
| 申请号 | CN200920073158.6 | 申请日期 | 2009.05.31 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 卢夕生;杜亮 |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种晶圆清洗设备，包括：外罩，所述外罩表面设有若干个缺口；其特征在于，还包括与所述缺口位置对应，用于封闭或者开放所述缺口的控制门。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江路18号 | ||