发明名称 ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS
摘要
申请公布号 EP2183407(A1) 申请公布日期 2010.05.12
申请号 EP20080826757 申请日期 2008.07.15
申请人 DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC. 发明人 RHOTON, CHRISTINA, A.;WARAKOMSKI, JOHN, M.
分类号 C23C16/40;B05D7/24 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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