发明名称 一种硅料清洁方法
摘要 本发明属于半导体材料清洁处理技术领域,特别涉及对废硅料去除表层杂质的清洁工艺,按下列步骤完成:(1)硅料沉浸于氢氟酸和硝酸混合酸溶液中;(2)捞取浸渍后的硅料,用纯水多级冲洗;(3)将冲洗后的硅料浸泡于纯水;(4)测定纯水浸泡液的电导率;(5)捞取硅料,烘干。经本发明清洁后的废硅料完全清除了硅料表层的杂质和污物,符合制作半导体元器件的材料要求,为缓解硅料资源紧缺作出了贡献。
申请公布号 CN1947869B 申请公布日期 2010.05.12
申请号 CN200610050725.7 申请日期 2006.05.12
申请人 浙江昱辉阳光能源有限公司 发明人 吴云才
分类号 B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;C23G1/02(2006.01)I 主分类号 B08B3/08(2006.01)I
代理机构 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人 徐关寿
主权项 一种硅料清洁方法,其特征在于:按下列步骤完成:(1)硅料沉浸于氢氟酸和硝酸混合酸溶液中,氢氟酸的浓度为40%-49%,硝酸的浓度为65%-68%,氢氟酸和硝酸的比例为1∶8~12,硅料在混合酸液中浸渍时间为1.5-3分钟;(2)捞取浸渍后的硅料,用纯水多级冲洗;(3)将冲洗后的硅料浸泡于纯水;(4)测定纯水浸泡液的电导率;(5)捞取硅料,烘干。
地址 314117 浙江省嘉善县姚庄镇工业区宝群路8号