发明名称 |
一种硅料清洁方法 |
摘要 |
本发明属于半导体材料清洁处理技术领域,特别涉及对废硅料去除表层杂质的清洁工艺,按下列步骤完成:(1)硅料沉浸于氢氟酸和硝酸混合酸溶液中;(2)捞取浸渍后的硅料,用纯水多级冲洗;(3)将冲洗后的硅料浸泡于纯水;(4)测定纯水浸泡液的电导率;(5)捞取硅料,烘干。经本发明清洁后的废硅料完全清除了硅料表层的杂质和污物,符合制作半导体元器件的材料要求,为缓解硅料资源紧缺作出了贡献。 |
申请公布号 |
CN1947869B |
申请公布日期 |
2010.05.12 |
申请号 |
CN200610050725.7 |
申请日期 |
2006.05.12 |
申请人 |
浙江昱辉阳光能源有限公司 |
发明人 |
吴云才 |
分类号 |
B08B3/08(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;C23G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/08(2006.01)I |
代理机构 |
浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 |
代理人 |
徐关寿 |
主权项 |
一种硅料清洁方法,其特征在于:按下列步骤完成:(1)硅料沉浸于氢氟酸和硝酸混合酸溶液中,氢氟酸的浓度为40%-49%,硝酸的浓度为65%-68%,氢氟酸和硝酸的比例为1∶8~12,硅料在混合酸液中浸渍时间为1.5-3分钟;(2)捞取浸渍后的硅料,用纯水多级冲洗;(3)将冲洗后的硅料浸泡于纯水;(4)测定纯水浸泡液的电导率;(5)捞取硅料,烘干。 |
地址 |
314117 浙江省嘉善县姚庄镇工业区宝群路8号 |