发明名称 Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung von zinkhaltigen Schichten
摘要 Die vorliegende Erfindung betrifft ein galvanisches Bad sowie ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung einer zinkhaltigen Schicht auf einer Substratoberfläche. Erfindungsgemäß ist es vorgesehen, dass das galvanische Bad in wenigstens zwei Zellräume unterteilt ist, wobei die Unterteilung mittels einer Kationenaustauschmembran erfolgt und ein Zellraum einen sauren Abscheide-Elektrolyten aufnimmt und der weitere Zellraum einen neutralen oder sauren Anolyten aufnimmt. Der saure Anolyt wird hierbei aus dem ihn aufnehmenden Zellraum zumindest teilweise abgeführt und mittels einer Kationenaustauschereinrichtung um in ihm enthaltende Fremdmetallionen abgereichert.
申请公布号 DE102008056776(A1) 申请公布日期 2010.05.12
申请号 DE20081056776 申请日期 2008.11.11
申请人 ENTHONE INC. 发明人 FUHRMANN, AXEL
分类号 C25D21/22;C25D3/22 主分类号 C25D21/22
代理机构 代理人
主权项
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