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<p>Es wird ein Verfahren zum definierten Aufbringen oder Einbetten von Nano- oder Mikropartikeln einer beliebigen Substanz auf oder in eine durch Plasmabeschichtung auf eine Substratoberfläche aufzubringende Schicht (13) vor dem, während des oder nach dem Plasmabeschichtungsvorgang in einem Magnetron oder Plasmatron (4) beschrieben. Die Partikel werden über mindestens eine Druckstufe (10) von außen in die Vakuumkammer (1) des Magnetrons oder Plasmatrons räumlich verteilt in den Plasmaraum (5) zwischen Target (3) und Substrat (2) eingebracht. Vorzugsweise werden die Partikel in dem Plasmaraum einem eine zum Substrat hin gerichtete Bewegung der Partikel erzeugenden elektrischen Feld ausgesetzt. Hierfür ist es vorteilhaft, wenn die Partikel vor dem Einbringen in den Plasmaraum elektrisch geladen werden.</p> |
