一种用于方形基片的化学机械磨抛头

摘要

一种用于方形基片的化学机械磨抛头，适于陶瓷等方形基片的化学机械抛光；它包括设有负压抽气通道的磨头主轴和位于其底端下方的磨头盘，磨头盘上面接有固定盘；磨头盘底部有向下凸起的方形台阶，该方形台阶中设有多个小通气道且其下端口开在方形台阶底面而其上端口同磨头主轴的负压抽气通道连通；方形驱动环装在磨头盘下面且所述方形台阶位于其中部对应的方形孔中，方形驱动环下端口周边有向下凸起的边框；方形驱动环上表面与磨头盘之间装有垫环。它可以使方形基片在装载与卸载过程中操作便捷，稳定可靠，在磨抛过程中工艺稳定，不易发生掉片，碎片现象；还可提高设备的稳定性与兼容性。

主权项

一种用于方形基片的化学机械磨抛头，包括内部设有轴向负压抽气通道(1)的磨头主轴(2)和位于该磨头主轴(2)底端下方并由该磨头主轴驱动旋转的磨头盘(3)，所述磨头盘(3)上面用紧固件(4)连接有固定盘(5)，其特征是，所述磨头盘(3)底部有向下凸起的方形台阶(6)，该方形台阶(6)中设有多个小通气道(7)，所述小通气道(7)的下端口开在方形台阶(6)底面而所述小通气道的上端口同磨头主轴的负压抽气通道(1)连通；方形驱动环(8)用紧固件(9)安装在所述磨头盘(3)下面且所述方形台阶(6)位于该方形驱动环(8)中部对应的方形孔中，所述方形驱动环(8)下端口周边有向下凸起的边框(10)；方形驱动环(8)上表面与磨头盘(3)之间装有垫环(11)。