液晶显示器的制造方法

摘要

本发明提供了一种制作具有显示区和非显示区的液晶显示器的方法，该方法包括：在绝缘基底上形成具有漏电极的薄膜晶体管(TFT)；在TFT上顺序地形成无机层和有机绝缘层；通过图案化有机绝缘层来形成有机绝缘层图案，有机绝缘层包括第一有机层孔和第二有机层孔，其中，第一有机层孔暴露漏电极上的无机层，第二有机层孔沿着其中有机绝缘层被部分去除的显示区的外围形成；去除通过第一有机层孔暴露的无机层和残留在第二有机层孔内的有机绝缘层；在第二有机层孔内形成密封剂。因而，本发明提供了一种利用较少的掩模制作LCD的方法而防止了滤色器基底与TFT基底分开。

主权项

一种制作具有显示区和非显示区的液晶显示器的方法，所述方法包括：在绝缘基底上形成具有漏电极的薄膜晶体管；在所述薄膜晶体管上顺序地形成无机层和有机绝缘层，所述有机绝缘层具有在所述显示区上的透镜部分；利用用于所述有机层的掩模，将有机绝缘层暴露于光来形成有机绝缘层图案，所述有机绝缘层图案包括第一有机层孔和第二有机层孔，其中，所述第一有机层孔暴露所述漏电极上的所述无机层，所述第二有机层孔沿着其中所述有机绝缘层被部分去除的显示区的外围形成；去除通过所述第一有机层孔暴露的所述无机层和残留在所述第二有机层孔内的所述有机绝缘层，从而通过第二有机层孔来暴露无机层；在所述第二有机层孔内形成密封剂，其中，所述掩模包括顺序沉积在石英基底上的钼硅层和铬层，其中，去除在所述掩模的与所述第一有机层孔对应的第一区域中的一部分钼硅层和一部分铬层，在所述掩模的与所述第二有机层孔对应的第二区域中的一部分钼硅层被狭缝图案化，去除所述掩模的所述第二区域中的一部分钼硅层，所述掩模的与所述透镜部分对应的第三区域中的一部分铬层以规则的间隔形成在钼硅层上。