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Es wird ein Verfahren zur Auswahl von besonders laserstabilem optischen Material beschrieben, das für die Herstellung von optischen Elementen, insbesondere zur Durchstrahlung mit energiereichem Licht bei Wellenlängen unter 200 nm geeignet ist. Das Verfahren umfasst ein erstes Vorbestrahlen des Materials zur Erzeugung eines ersten Strahlenschadens und Anregen des vorbestrahlten Materials mit Licht einer Wellenlänge zwischen 350-700 nm mindestens 10 Minuten nach dem Ende der ersten Vorbestrahlung zur Erzeugung einer ersten induzierten Fluoreszenz und Bestimmen der Intensität dieser ersten Fluoreszenz bei einer oder mehreren Wellenlängen zwischen 550 und 810 nm. Dabei wird nach Bestimmen der ersten Fluoreszenz das Material ein zweites Mal mit mindestens einer 1000-fach höheren Energiemenge bestrahlt und danach die induzierte Fluoreszenz ein weiteres Mal bestimmt und deren Zunahme ermittelt. Ein derart bestimmtes Material wird zur Herstellung von Linsen, Prismen, Lichtleitstäben, optischen Fenstern sowie optischen Geräten für die DUV-Lithographie, insbesondere zur Herstellung von Steppern und Excimer-Lasern und somit auch zur Herstellung von integrierten Schaltungen, Computerchips sowie elektronischen Geräten wie Computern sowie anderen Geräten, welche chipartige integrierte Schaltungen enthalten, verwendet.
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