发明名称 |
在半导体晶圆制造系统中,补偿扫描系统计时差异之方法及系统 |
摘要 |
一种半导体晶圆制造系统,包括至少一追踪系统和一扫描器系统,藉由当这样之偏离被侦测时,动态地引进时间延迟而补偿在该扫描器系统中从正常周期性之偏离。较佳地,先前技艺之静态等待状态也引进至该晶圆方法中以减少资源冲突之可能性。尽管有这样之偏离,因为维持了晶圆流程之同步,该产生之半导体晶圆制造系统可以享受增强之晶圆输出率。 |
申请公布号 |
TWI324743 |
申请公布日期 |
2010.05.11 |
申请号 |
TW093106731 |
申请日期 |
2004.03.12 |
申请人 |
ASML控股公司 |
发明人 |
希拉蕊L 何 |
分类号 |
G06F7/00 |
主分类号 |
G06F7/00 |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种补偿一正常扫描器系统时脉周期性之偏离之方法,该方法应用于包括至少一追踪系统以及一扫描器系统之一半导体晶圆制造系统中,该方法包括下列步骤:(a)回应从一扫描系系统时脉之讯号,操作该扫描器系统;(b)回应从一追踪系统时脉之讯号,操作该追踪系统;(c)如所需的预先决定和插入等待状态以避免在该半导体晶圆制造系统中之资源冲突;以及(d)决定从在该扫描器时脉中之正常时序之偏离且如所需的在该半导体晶圆制造系统中插入时间延迟以补偿该偏离。 |
地址 |
荷兰 |