| 主权项 |
一种正型光阻组成物，其为含有经由酸之作用而增大硷溶解性之基材成份(A)，与经由曝光发生酸之酸产生剂成份(B)之正型光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)为含有，具有2个以上酚性羟基，且分子量为300至2500之多元酚化合物(a)中，前述酚性羟基被酸解离性溶解抑制基所保护之化合物(A1)，(A)成份中，化合物(A1)之比例超过40质量%，且，前述化合物(A1)为，每一分子之保护数(个)之标准误差(σn)为未达1者，前述多元酚化合物(a)为由下述式(I)、(II)、或(III)所示化合物所成群中所选出之至少1种，[式(I)中，R11至R17分别独立为碳数1至10之烷基，或芳香族烃基，其结构中可含有杂原子；g、j分别独立为1以上之整数，k、q为0或1以上之整数，且g+j+k+q为5以下；h为1以上之整数，l、m分别独立为0或1以上之整数，且h+l+m为4以下；i为1以上之整数，n、o分别独立为0或1以上之整数，且i+n+o为4以下；p为0或1；X为下述式(Ia)或式(Ib)所示之基](式(Ia)中，R18、R19分别独立为碳数1至10之烷基或芳香族烃基，其结构中可含有杂原子；r、y、z分别独立为0或1以上之整数，且r+y+z为4以下)[式(II)中，R21至R26分别独立为碳数1至10之烷基，或芳香族烃基，其结构中可含有杂原子；d’、g’分别独立为1以上之整数，h’为0或1以上之整数，且d’+g’+h’为5以下；e’为1以上之整数，i’、j’分别独立为0或1以上之整数，且e’+i’+j’为4以下；f’、k’分别独立为1以上之整数，l’为0或1以上之整数，且f’+k’+l’为5以下；q’为1至20之整数][式(III)中，R31至R38分别独立为碳数1至10之烷基，或芳香族烃基，其结构中可含有杂原子；a”、e”分别独立为1以上之整数，f”为0或1以上之整数，且a”+e”+f”为5以下；b”、h”分别独立为1以上之整数，g”为0或1以上之整数，且b”+h”+g”为5以下；c”、i”分别独立为1以上之整数，j”为0或1以上之整数，且c”+i”+j”为5以下；d”为1以上之整数，k”、l”分别独立为0或1以上之整数，且d”+k”+l”为3以下]。 |
